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低温诱导水稻幼苗的光氧化伤害

王以柔, 曾韶西, 李晓萍, 刘鸿先

中国科学院华南植物研究所

摘要

在5℃、白昼PFD为400μmol m~(-2) s~(-1)时, 水稻叶片光氧化伤害随低温处理时间的延长而加强, 其程度并随温度下降而加剧; 耐冷不同的品种表现也有差异。在昼夜10℃/0℃温度下, 叶片光氧化程度随PFD的提高而增强。低温处理后恢复期间, 470μmol m~(-2) s~(-1)光强会加剧光氧化伤害, 而60μmol m~(-2) s~(-1)光强则有利于伤害的恢复。图7表2参14

Chilling-induced photooxidative damage of rice seedlings

Wang Yirou, Zeng Shaoxi, Li Xiaoping, Liu Hongxian

South China Inst. Bot., Acad. Sin.

Abstract

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引用本文：

王以柔, 曾韶西, 李晓萍, 刘鸿先. 低温诱导水稻幼苗的光氧化伤害[J]. 生理学报 1990; 42 (2): .

Wang Yirou, Zeng Shaoxi, Li Xiaoping, Liu Hongxian. Chilling-induced photooxidative damage of rice seedlings. Acta Physiol Sin 1990; 42 (2): (in Chinese with English abstract).